|
菲羅門Chiral多糖型手性柱的使用及維護(hù)
一、手性固定相一覽表
|
正相涂敷型固定相
|
|
Chiral ND,ND(2), NC(2),NJ(2),NQ(2),NS(2),NT(2),NX(2), NY(2),NZ(2), MB(2), MC(2), MF(2), MG(2), MD,MD(2),MJ(2),MQ(2),MS(2),MX(2),MY(2), MZ(2)
|
|
正相鍵合型固定相
|
|
Chiral INA, INB, INC,INE,INF,ING,INH, INJ,INK,INM
|
|
反相涂敷型固定相
|
|
Chiral ND(2)-RH, NC(2)-RH,NJ(2)-RH, NQ(2)-RH, NS(2)-RH,NX(2)-RH, NY(2)-RH,NZ(2)-RH, MD(2)-RH, MJ(2)-RH, MQ(2)-RH,MX(2)-RH, MZ(2)-RH, MS(2)-RH, MY(2)-RH
|
二、常用優(yōu)化峰形的添加劑的選擇（正相，反相，SFC都可使用）
|
|
酸性樣品
|
堿性樣品
|
|
常規(guī)一般使用
|
三氟乙酸，甲酸
(0.1%-0.5%)
|
二乙胺
(0.1%-0.5%)
|
|
考慮繼續(xù)調(diào)整峰形使用
|
甲磺酸
(0.1%)
|
三乙胺、乙醇胺、正丁胺(0.1%-0.5%)
|
|
特別需要時(shí)，酸性與堿性添加劑可以同時(shí)添加，建議各0.1%
|
|
添加劑適合正相以及SFC超臨界流體，以及反相（反相應(yīng)用時(shí)，建議0.05%-0.1%）
|
三、正相涂敷型手性固定相常用起始條件
|
|
１
|
2
|
|
起始條件
|
HEX:IPA=80:20
|
HEX:EtOH=80:20
|
|
調(diào)整范圍
|
HEX 99%至50%之間
|
HEX 99%至50%之間
|
|
HEX:正己烷，IPA:異丙醇，EtOH:無水乙醇
|
|
HEX比例增加，保留時(shí)間會(huì)變長
|
|
IPA與EtOH一般比例不超過50%，遇到極性特別大的樣品，允許最高至95%，正常情況控制在50%以下
|
|
起始柱溫為25℃，起始流速建議在0.8ml/min左右。有條件的情況下，溫度在5-25℃內(nèi)調(diào)整，對(duì)分離度可能產(chǎn)生大的影響。溫度低有時(shí)利于拆分，溫度高，出峰快，峰形可能更尖銳
|
|
Chiral MF(2), Chiral MG(2)流動(dòng)相中不能用乙醇
|
|
正相涂敷型手性固定相不能接觸下列溶劑：甲基叔丁基醚(MtBE)，二氯甲烷(DCM)，四氫呋喃(THF)，乙酸乙酯(EtOAc)，氯仿(CHCl3)，丙酮等
|
四、正相鍵合型手性固定相常用起始條件
|
|
１
|
２
|
|
起始條件
|
HEX:IPA=80:20
|
HEX:EtOH=80:20
|
|
調(diào)整范圍
|
HEX 99%至50%之間
|
HEX 99%至50%之間
|
|
|
3
|
4
|
|
起始條件
|
MtBE:EtOH=98:2
|
HEX:DCM=50:50
|
|
調(diào)整范圍
|
MtBE 98%至60%之間
|
HEX 85%至50%之間
|
|
|
5
|
6
|
|
起始條件
|
HEX:THF=70:30
|
HEX:EtOAc=50:50
|
|
調(diào)整范圍
|
HEX 99%至70%之間
|
HEX 99%至50%之間
|
|
|
7
|
8
|
|
起始條件
|
HEX:CHCl3=30:70
|
ACN:IPA(或MeOH)＝100:0
|
|
調(diào)整范圍
|
HEX 60%至100%之間
|
ACN 100%至90%之間
|
|
HEX比例增加，保留時(shí)間會(huì)變長
|
|
除了上述溶劑，溶解與洗脫的必要性下，丙酮以及1,4二氧六環(huán)也可使用
|
|
起始柱溫為25℃，起始流速建議在0.8ml/min左右。有條件的情況下，溫度在5-25℃內(nèi)調(diào)整，對(duì)分離度可能產(chǎn)生大的影響。溫度低有時(shí)利于拆分，溫度高，出峰快，峰形可能更尖銳
|
五、反相手性固定相常用起始條件
|
|
酸性及兩性化合物
|
堿性化合物
|
中性化合物
|
|
水相 40%
|
0.1%甲酸水
|
0.1% TFA
|
水
|
|
0.1% TFA水
|
PH=2 100mM高氯酸鈉水溶淮
|
|
PH=2.5 50mM磷酸緩沖鹽
|
PH=2.5 100mM六氟磷酸鉀水溶液
|
|
0.1%磷酸水
|
20mM碳酸氫銨水溶液（PH=9）
|
|
PH=2 100mM高氯酸鈉水溶液
|
20mM碳酸氫銨水溶液（PH=9），含0.1% DEA
|
|
PH=2 100mM六氟磷酸鉀水溶液
|
|
有機(jī)相 60%
|
ACN, MeOH, IPA
|
六、正相涂敷型與鍵合型手性柱的清洗與保存
|
常規(guī)清洗
|
|
HEX:IPA=80:20 0.4ml/min 1-2小時(shí)并直接保存
|
|
柱效下降，峰形不正常時(shí)可能的特殊殘留物清洗，再生
|
|
酸性殘留
|
堿性殘留物
|
性質(zhì)不確定的殘留物
|
|
EtOH(0.1% DEA) 0.2ml/min 2小時(shí)
|
EtOH(0.1% TFA) 0.2ml/min 2小時(shí)
|
第1步EtOH(0.1% TFA) 0.2ml/min 2小時(shí)
|
|
|
|
第2步EtOH(0.1% DEA) 0.2ml/min 2小時(shí)
|
|
清洗完畢后，再用HEX:IPA=80:20 0.4ml/min 1小時(shí)，并按COA測(cè)試后直接保存
|
|
EtOH不適用于Chiral MF(2)與Chiral MG(2)固定相。Chiral INB, INC可用EtOAc再生
|
|
說明：如果是柱頭堵塞與污染，可以0.2ml/min流速倒沖
|
七、反相涂敷型與鍵合型手性柱的清洗與保存
|
常規(guī)清洗
|
|
ACN:H2O=10:90 0.5ml/min 1小時(shí)，ACN:H2O=90:10 0.5ml/min 1小時(shí),保存于ACN:H2O=75:25（或60:40）體系中
|
|
柱效，柱壓，峰形問題時(shí)，特殊殘留物的清洗，再生
|
|
第１步：MeOH:H2O=10:90(含0.1% TFA ) 0.2ml/min 1小時(shí)
|
|
第２步：MeOH:H2O=90:10(含0.1% TFA ) 0.2ml/min 1小時(shí)
|
|
第３步：MeOH:H2O=99:1(含0.1% TFA ) 0.2ml/min 2小時(shí)
|
|
第4步：ACN:H2O=75:25 0.5ml/min 30分鐘，并按COA測(cè)試后直接保存
|
|
說明：如果是柱頭堵塞與污染，可以0.2ml/min流速倒沖
|
八、手性色譜柱啟用與切換的注意
|
所有正，反相手性柱啟用時(shí)，建議流動(dòng)相下0.2ml/min流速先運(yùn)行10分鐘，再提升到0.5ml/min流速運(yùn)行5分鐘，再提升到需要運(yùn)行的流速
|
|
正相涂敷型與鍵合型手性柱，都可以在正相體系，SFC體系(甲醇與液態(tài)二氧化碳體系)以及PO極性體系（純ACN或純MeOH為流動(dòng)相，或者含5%的IPA）切換使用。從一種體系切換到另一種體系時(shí)，需用20倍柱體積的IPA以0.2ml/min沖洗以切換。按250*4.6mm柱計(jì)算，20倍柱體積約50ml
|
|
鍵合型手性柱，出廠在正相體系中，如果要轉(zhuǎn)化為反相柱使用，需用20倍柱體積的IPA以0.2ml/min沖洗后，再用反相體系沖洗轉(zhuǎn)化為反相柱，之后按反相柱的操作進(jìn)行。一旦轉(zhuǎn)化為反相手性柱，則不能再切換回正相
|
九、手性柱主要特點(diǎn)
|
適用PH范圍為2-９
|
|
適用溫度范圍為0-40℃
|
|
適用壓力上限為300bar
|
|
可供應(yīng)色譜柱，制備柱產(chǎn)品的粒徑為 3u, 5u, 10u，內(nèi)徑為2.1mm, 3.0mm, 4.6mm,10mm, 21.2mm, 30mm, 50mm，長度為50mm, 100mm, 150mm, 250mm
|
|
可供應(yīng)的填料粒徑為10u
|
十、一些溶劑的UV截止波長
|
溶劑
|
UV截止波長
|
溶劑
|
UV截止波長
|
|
HEX
|
200nm
|
IPA
|
205nm
|
|
EtOH
|
210nm
|
MeOH
|
205nm
|
|
ACN
|
190nm
|
H2O
|
小于190nm
|
|
DCM
|
233nm
|
EtOAc
|
256nm
|
|
MtBE
|
210nm
|
THF
|
212nm
|
|
掃一掃，添加菲羅門公眾號(hào)
